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  • 1
    facet.materialart.
    Unknown
    Publication Date: 2017-09-25
    Description: Das wachsende Interesse an Graphen beruht auf seiner unverwechselbaren Bandstruktur und seinen damit zusammenhängenden herausragenden physikalischen Eigenschaften. Es wird daher weltweit nach einem Verfahren gesucht, Graphen großflächig und mit hoher Qualität abzuscheiden. In einer an der TH Wildau [FH] speziell für diese Aufgabe konzipierten Reaktionskammer wurde die Herstellung mittels chemischer Gasphasenabscheidung auf katalytischen Metalloberflächen für verschiedene Parameter studiert und deren Verträglichkeit mit der CMOS -Technologie untersucht. Die ersten Tests erfolgten auf Nickel, da hier eine im Volumen stattfindende katalytische Reaktion einsetzt. In weiteren Schritten fiel die Wahl auf Kupfer, da hier die Reaktion an der Oberfläche stattfindet und daher ein stabilerer Prozess realisiert werden konnte. Die Qualitätsprüfung der erzeugten Schichten erfolgte mittels Ramanspektrometrie.
    Keywords: ddc:620
    Language: German
    Type: article , doc-type:article , doc-type:articlewildau
    Format: application/pdf
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  • 2
    facet.materialart.
    Unknown
    Publication Date: 2020-02-28
    Description: In this paper, the indirect monitoring of plasma-induced defect formation within fused silica via plasma emission spectroscopy is presented. It is shown that low-pressure plasma treatment with hydrogen as process gas leads to a decrease in UV transmission of fused silica. This decrease can be directly attributed to oxygen vacancy-related defects and the presence of hydrogen within the silicon dioxide glass network. By the analysis of the plasma composition, it was observed that the amount of oxygen within the plasma increases with increasing treatment duration. Hence, oxygen was continuously released from glass network in the course of the plasma treatment. It was further observed that this release is strongly dependent on the applied plasma power where the lowest process efficiency occurs at the highest plasma power. It is shown that an increase in plasma power leads to a remarkable increase in light emission from the working gas, hydrogen. This observation indicates that the higher the degree of excitation and ionisation of the plasma, the lower the efficiency of plasma-induced formation of oxygen deficiency-related defects. This finding is of mentionable relevance for a better understanding of plasma-induced surface modification and coating processes.
    Keywords: ddc:621
    Language: English
    Type: article , doc-type:article
    Format: application/pdf
    Location Call Number Limitation Availability
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  • 3
    facet.materialart.
    Unknown
    Publication Date: 2020-11-17
    Description: In the last decades, laser machining of fused silica has gained in importance where the main challenge is to overcome the high transmission of this medium in order to achieve surface absorption. One approach is plasma treatment using hydrogenous process gases. In doing so, a near-surface glass layer is chemically modified by a removal of oxygen and an implantation of hydrogen, resulting in the formation of optically active defects and an increase in absorption. Against this background, the impact of the plasma power on plasma-induced increase in absorption of fused silica was investigated in the present work. Here, the highest efficiency of the plasma treatment process was found at the lowest applied plasma power whereas for higher plasma powers, a notably lower increase in absorption was observed. This effect is attributed to the decomposition of plasma species required for initiating the formation of optically active defects within the glass. Such decomposition increases with rising power due to the corresponding increase in electric field strength within the plasma. This finding is of substantial interest for an extensive understanding of plasma-glass interactions.
    Description: Die Laserbearbeitung von Quarzglas hat in den letzten Jahrzehnten an Bedeutung gewonnen. Dabei besteht die Herausforderung darin, die hohe Transmission dieses Mediums zu überwinden. Hierzu stellt eine Plasmabehandlung mittels wasserstoffhaltigen Prozessgasen einen Ansatz dar. Dabei wird eine oberflächennahe Glasschicht durch Entfernung von Sauerstoff und Implantation von Wasserstoff chemisch modifiziert, woraus die Ausbildung optisch aktiver Defekte und ein Anstieg der Absorption resultieren. Vor diesem Hintergrund wurde in dieser Arbeit der Einfluss der Plasmaleistung auf die plasmainduzierte Absorptionssteigerung untersucht. Die höchste Effizienz der Plasmabehandlung wurde bei der geringsten applizierten Leistung erzielt, wohingegen bei höheren Plasmaleistungen nennenswert geringere Absorptionssteigerungen beobachtet wurden. Dieser Effekt wird auf den Zerfall von Plasmaspezies, die für eine Ausbildung optisch aktiver Defekte benötigt werden, zurückgeführt, welcher mit ansteigender Leistung und dem damit einhergehenden Anstieg der elektrischen Feldstärke im Plasma anwächst. Diese Erkenntnis ist von hohem Interesse für ein umfassendes Verständnis von Plasma-Glas-Wechselwirkungen.
    Description: Ces dernières décennies, les applications laser en usine composées de silice fondue ont gagné en importance, l'enjeu consistant à surmonter le problème de la transmission élevée de ce milieu dans le but d’obtenir l’absorption de surface. Une façon d’aborder le problème est d’appliquer le traitement au plasma en utilisant des procédés au gaz de dihydrogène. En agissant ainsi, une couche de verre proche de la surface est modifiée chimiquement par l’ablation d’oxygène et l’implantation d’hydrogène, ce qui provoque la formation de défauts optiquement actifs et l’augmentation de l’absorption. Dans ce contexte, l’impact de la puissance du plasma sur l’augmentation de l’absorption de silice fondue induite par le plasma a été étudié dans cet article. Ici, la meilleure efficacité du traitement au plasma a été constatée à la puissance de plasma la plus faible tandis que pour de plus fortes puissances, une augmentation bien plus faible en absorption a été observée. Cet effet est attribué à la décomposition des espèces de plasma requises dans la formation des défauts optiquement actifs à l’intérieur du verre. Une telle décomposition augmente avec la montée de puissance due à l'augmentation de force du champ électrique dans le plasma. Cette découverte est d’un intérêt considérable pour une compréhension plus poussée des interactions plasma-verre.
    Keywords: ddc:621
    Language: English
    Type: article , doc-type:article , doc-type:article
    Format: application/pdf
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  • 4
    Book
    Book
    Wildau
    Keywords: Spektroskopie ; Gasentladungslampe ; Stickstoffoxide ; Plasmachemie ; Hochschulschrift ; Spektroskopie ; Gasentladungslampe ; Stickstoffoxide ; Plasmachemie
    Abstract: Photonik
    Additional Material: 1 CD-ROM
    Type of Medium: Book
    Pages: II, 73 Blätter , Illustration
    Language: German
    Dissertation note: Masterarbeit Technische Hochschule
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  • 5
    Book
    Book
    Wildau
    Keywords: Oberflächenbehandlung ; Laserbearbeitung ; Passivschicht ; Hochschulschrift ; Oberflächenbehandlung ; Laserbearbeitung ; Passivschicht
    Abstract: Photonik
    Additional Material: 1 CD-ROM
    Type of Medium: Book
    Pages: i, 83 Blätter , Illustrationen
    Language: English
    Dissertation note: Masterarbeit Technische Hochschule
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  • 6
    Book
    Book
    Wildau
    Keywords: Raman-Spektroskopie ; Graphen ; Vakuumkammer ; CVD-Verfahren ; Hochschulschrift ; Raman-Spektroskopie ; Graphen ; Vakuumkammer ; CVD-Verfahren
    Abstract: Photonik
    Type of Medium: Book
    Pages: II, 71 Blätter , Illustrationen
    Language: German
    Dissertation note: Masterarbeit Technische Hochschule
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  • 7
    Book
    Book
    Wildau
    Keywords: Leistungsmessung ; Hochschulschrift ; Leistungsmessung
    Abstract: Physikalische Technik
    Additional Material: 1 CD-ROM
    Type of Medium: Book
    Pages: II, 99 Blätter , graphische Darstellungen
    Language: German
    Dissertation note: Bachelorarbeit Technische Hochschule
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  • 8
    Book
    Book
    Wildau
    Keywords: Diffraktives optisches Element ; Beugungstheorie ; Hochschulschrift ; Diffraktives optisches Element ; Beugungstheorie
    Abstract: Photonik
    Additional Material: 1 CD-ROM
    Type of Medium: Book
    Pages: 56 Blätter , Illustrationen
    Language: German
    Dissertation note: Masterarbeit Technische Hochschule
    Location Call Number Limitation Availability
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  • 9
    Book
    Book
    Wildau
    Keywords: Plasmaprozessanalyse ; SLI670 ; 980 nm ; Spektralbereichsverfahren ; Hochschulschrift ; Plasmaprozessanalyse ; SLI670 ; 980 nm ; Spektralbereichsverfahren
    Abstract: Physikalische Technik
    Additional Material: 1 CD-ROM
    Type of Medium: Book
    Pages: III, 64 Blätter , Illustrationen
    Language: German
    Dissertation note: Bachelorarbeit Technische Hochschule
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  • 10
    Book
    Book
    Wildau
    Keywords: Photoionisationsdetektor ; Messung ; Ablaufverfolgung ; Selbstreinigung ; Hochschulschrift ; Photoionisationsdetektor ; Messung ; Ablaufverfolgung ; Selbstreinigung
    Abstract: Physikalische Technik
    Type of Medium: Book
    Pages: ii, 63 Blätter , Illustrationen
    Language: German
    Dissertation note: Bachelorarbeit Technische Hochschule
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